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苹果新专利获批: Face ID或将采用更先进的超表面光学技术

科技媒体PatentlyApple报道,苹果公司近日获批一项涉及下一代Face ID技术的新专利,计划从现有的衍射光学元件(DOE)转向更先进的“超表面光学元件”(MOE)。目前,Face ID依赖DOE生成点状照明图案以实现3D映射,但传统结构光投影模组需多个光学元件,尽管体积已足够小巧,仍有优化空间。

新专利提出的MOE技术将光束分割与准直功能集成于单一扁平元件中,不仅缩小了模组体积,降低了生产成本,还简化了组装流程。此外,MOE能调整光轴倾斜角度,使点状图案与摄像头视野更好重叠,提升3D映射精度,同时支持灵活切换点状与泛光照明模式,适应不同场景需求。

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