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佳能开设21年来首座光刻机新厂 聚焦成熟制程与封装需求

佳能近日在栃木县宇都宫市举行半导体光刻设备新工厂开业仪式,这是该公司21年来首次新建光刻机生产基地。据悉,这座总投资约500亿日元、建筑面积达67518平方米的工厂将于9月投产,届时佳能光刻设备产能将较2021年实现翻番。

该工厂主要生产i线、KrF等成熟制程光刻设备,并计划在未来两年内新增镜头加工产线。值得注意的是,工厂还将制造用于先进封装的NIL纳米压印系统,以应对AI技术发展带来的后端封装需求激增。

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